Magnetron Püskürtmenin Temel Prensibi

Magnetron püskürtmenin temel prensibi

Magnetron püskürtme, elektronların hareketini bağlamak, elektronların iyonlaşma oranını artırmak için manyetik alanın kullanılmasıdır. Geleneksel püskürtme ile karşılaştırıldığında, iki ana özelliği vardır: "düşük sıcaklık (çarpışma sayısını artırarak, elektronların enerjisi kademeli olarak azalır ve ancak enerji tükendikten sonra anoda düşer)" ve "yüksek hız (artan yol)" elektron hareketinin artması, iyonlaşma oranının iyileştirilmesi, daha fazla iyonun iyonize edilmesi hedefi bombardıman eder)".
Püskürtme oranını manyetik alanlar aracılığıyla artırmanın temel ilkesi, 60 yıldan uzun bir süre önce Penning tarafından icat edildi ve daha sonra Kay ve diğerleri tarafından geliştirildi ve püskürtme tabancalarının ve silindirik manyetik alan kaynaklarının geliştirilmesine yol açtı. Düzlemsel manyeto yapılar, 1979'da Chapin'de tanıtıldı.

İKS PVD firmasına dekoratif kaplama makinası, alet kaplama makinası, DLC kaplama makinası, optik kaplama makinası, PVD vakum kaplama hattı, anahtar teslim projelendirme mevcuttur. Şimdi bize ulaşın, E-posta: iks.pvd@foxmail.com