PVD Malzemeleri
Dec 28, 2017| PVD veya Fiziksel Buhar Depolama Malzemeleri, ince filmler ve kaplamalar oluşturmak için püskürtme magnetronlarında kullanılabilen bir dizi metali içerir. Angstrom Sciences ayrıca aşağıdakileri içeren yüksek saflıkta vakum birikim materyalleri içeren kapsamlı bir seçim sunar:
Alüminyum Alüminyum bakır Alüminyum bakır Tungsten Alüminyum nitrit Aluminyum oksit Alüminyum Silikon Antimon Baryum Baryum Ferit Baryum Florür Baryumlu stronsiyum titanate Baryum Titanat Baryum Oksit Berilyum Bizmut Bizmut Lanthanum Titanyum Bizmut Stronsiyum Kalsiyum Bizmut Stronsiyum Titanat Bizmut Titanyum Oksit Bizmut trioksit Bor Bor Karbür Bor nitrür Kadmiyum Florür Kadmiyum Oksit Kadmiyum Selenit Kadmiyum Sülfür Kadmiyum Tellür Kalsiyum Florür Kalsiyum oksit Kalsiyum silikat Kalsiyum titanyat Karbon (Grafit) Karbon çelik seryum Seryum Oksit Krom Krom borür Krom oksit Krom silisit Kobalt Kobalt Krom Kobalt Oksit Kobalt Silisit Kobalt Zirkonyum Bakır | Bakır Sülfür Bakır oksit Disporsiyum erbiyum öropiyum galyum Galyum Arsenid Galyum Oksit Gadolinyum Germanyum Germanyum nitrit Germanyum oksit Altın Altın Germanyum Altın paladyum Altın kalay Altın Çinko Hafniyum Hafniyum Karbür Hafniyum Nitrit Hafniyum Oksit Holmiyum Inconel İndiyum İndiyum Oksit İndiyum kalay oksit İridyum Demir Demir oksit Öncülük etmek lantan Lanthanum Aluminat Lanthanum Boride Lanthanum Oksit Lananten Stronsiyum Kobalt Oksit Lanantan Manganez Oksit Kurşun oksit Kurşun Titanat Kurşun Zirkonyum Titanat Oksit Lityum Lityum Karbonat Lityum Kobalt Oksit Lityum Niobat | Lityum Fosfat Lityum Tantalat Magnezyum Magnezyum Florür Magnezyum monoksit Magnezyum oksit Manganez Molibden Molibden disülfür Molibden Oksit Selenit molibden Molibden Silisit Molibden Sülfür Neodimyum Neodimiyum Galyum Oksit Neodimyum Demir Borit Nikel Nikel Krom Nikel Kobalt Nikel Oksit Nikel Silisit Nikel Vanadyum niobyum Niobyum Oksit palladyum Platin praseodim Pryolitik Bor Nitrür Renyum Rodyum Rutenyum Samaryum Samarium Kobalt Skandiyum Scandium Oxide Selenyum Silikon Silikon Karbür Silikon dioksit Silikon monoksit Silikon nitrit Gümüş Gümüş oksit Stronsiyum Bizmut Niobyum Oksit | Stronsiyum Bizmut Tantal niobyum Stronsiyum katkılı lantanum Stronsiyum Oksit Stronsiyum Titanat Tantal Karantit tantal Tantal nitrit Tantal oksit Tantal silikat Tantal Sülfür Tellür Terbiyum Terbiyum demir Talyum Talyum oksit Toryum Florür Toryum oksit Teneke Kalay oksit Titanyum Titanyum borit Titanyum Karbür Titanyum nitrit Titanyum oksit Titanyum silisit Titanyum sülfür Tungsten Tungsten silisit Tungsten sülfür Tungsten titanyum Vanadyum Vanadyum Pentoksit İtriyum Yttrium Baryum Bakır Oksit Yitriyum Oksit Çinko Çinko oksit Zink Selenit Çinko Sülfür Zirkonyum Zirkonyum nitrit Zirkonyum Oksit Zirkonyum silikat Zirkonyum Oksit Yitriyum Oksit |
Fiziksel Buhar Depolamayla (PVD) çöktürülen bir filmin kalitesini ve işlevselliğini etkileyen üç faktör vardır : çökelme kaynağının kalitesi ve performansı, çökelme materyalinin özellikleri ve yapısı ve çökelmenin özü ve düzeni sistemi ve onun ilgili çevre birimleri.
Kaynak materyalin kimyasal bileşimi, yalnızca uygulamaya özel sağlam bir işlemin başlangıç noktası olduğu için, tüm malzemeler bu süreçlerde eşdeğer değildir. Saflık seviyeleri, tanecik boyutu, kristalografik yapı / doku, ancak uygun bir çökelme yapısının benzersiz şekilde özelleştirilmesine yönelik düşüncelerden birkaçı.