PECVD-substrat Sıcaklığı

Alt tabaka sıcaklığının filmin kalitesi üzerindeki etkisi esas olarak filmin yerel durum yoğunluğu, elektron hareketliliği ve optik özelliklerinde yatmaktadır. Substrat sıcaklığının artması, filmin yüzeyindeki süspansiyon bağının telafisi için faydalıdır ve filmin kusur yoğunluğu azalır.

Substrat sıcaklığının biriktirme hızı üzerinde çok az etkisi vardır, ancak filmin kalitesi üzerinde büyük etkisi vardır. Sıcaklık ne kadar yüksek olursa, biriktirme filminin yoğunluğu o kadar yüksek olur, sıcaklık o kadar yüksek yüzey reaksiyonunu arttırır ve filmin bileşimini geliştirir.

İKS PVD firmasına dekoratif kaplama makinası, alet kaplama makinası, DLC kaplama makinası, optik kaplama makinası, PVD vakum kaplama hattı, anahtar teslim projelendirme mevcuttur. Şimdi bize ulaşın, E-posta: iks.pvd@foxmail.com