Bağımsız Çalışan ve Geliştirilen 160mm Büyük Ark Kaynak Hataları Artırıyor

Bugün bağımsız olarak araştırılmış ve geliştirilmiş 160 mm'lik büyük ark kaynağı hata ayıklama aşamasındadır. Önceki 100mm ark kaynağıyla karşılaştırıldığında, bu büyük ark kaynağı hedefi düzgün bir şekilde etch edebilir ve kaplama işleminde hedef maddenin iyonizasyon hızını önemli ölçüde iyileştirebilir. Bağımsız mülkiyet hakkı ile 160mm'lik büyük ark kaynağı, hızlı film oluşturma hızı, son derece pürüzsüz film ve mükemmel yapışma sağlar. Aynı zamanda, küçük ark kaynağı ile kaplanan filmdeki daha büyük parçacıkların problemi çözülebilir, 160mm büyük ark kaynağı ile kaplanan film çok düzgün ve hassas olacaktır.

Hata ayıklamadan sonra, yeni ark kaynağı araçlarımıza çok arklı iyon vakum kaplama makinesine resmen uygulanacak ve bu 160mm büyük yay kaynağının uygulanması, takım PVD kaplama makinesinin performansını ve kaplama kalitesini büyük ölçüde artıracak ve müşterilere daha fazla fayda sağlayacaktır . 160 mm'lik büyük ark kaynaklarının başarılı bir şekilde geliştirilmesi, bağımsız vakum ekipmanları araştırma ve geliştirme firmamızın bir başka kilometre taşıdır. w Gelecekte Ar-Ge kapasitemizi daha da geliştireceğiz ve kuruluşun gelişimine ve vakum kaplama teknolojisinin ilerlemesine katkıda bulunacağız.