Magnetron Püskürtme Kaplama Teknolojisi

Magnetron püskürtme kaplama teknolojisi aşağıdaki avantajlara sahiptir: biriktirme oranı yüksektir. Yüksek hızlı magnetron elektrot nedeniyle elde edilen iyon akışı büyüktür, bu da kaplama işleminin biriktirme hızını ve püskürtme hızını etkili bir şekilde artırır. Diğer püskürtme kaplama işlemleriyle karşılaştırıldığında magnetron püskürtme, yüksek üretim kapasitesine ve büyük çıktıya sahiptir ve çeşitli endüstriyel üretimde yaygın olarak kullanılmaktadır. · Yüksek güç verimliliği. Magnetron püskürtme hedefi genellikle 200V-1000V, genellikle 600V aralığında bir voltaj seçer, çünkü 600V voltajı güç verimliliğinin en yüksek etkili aralığı içindedir. · Düşük püskürtme enerjisi. Magnetron hedef voltajı düşük uygulanır ve manyetik alan, plazmayı katodun yakınında kısıtlar, bu da daha yüksek enerji yüklü parçacıkların alt tabakaya çarpmasını önler. · Alt tabaka sıcaklığı düşük. Anot, substrat desteğini topraklamak zorunda kalmadan, deşarj sırasında üretilen elektronları yönlendirmek için kullanılabilir; bu, substratın elektron bombardımanını etkili bir şekilde azaltabilir, böylece substratın sıcaklığı düşüktür, bu da bazı plastik substratlar için çok uygundur. yüksek sıcaklığa çok dayanıklı olmayan kaplamalar. · Magnetron püskürtme hedefinin yüzeyinde eşit olmayan aşınma. Magnetron püskürtme hedefinin düzensiz yüzey aşınması, hedefin eşit olmayan manyetik alanından kaynaklanır ve hedefin yerel konum aşındırma oranı büyüktür, bu nedenle hedefin etkin kullanım oranı düşüktür (yalnızca %20-30 % kullanım oranı). Bu nedenle, hedefin kullanım oranını artırmak istiyorsanız, manyetik alan dağılımını belirli yollarla değiştirmeniz veya mıknatısı katotta hareket ettirmek için kullanmanız gerekir; bu da hedefin kullanım oranını artırabilir. · Bileşik hedef. Kompozit hedef kaplama alaşımlı film yapılabilir. Şu anda, Ta-Ti alaşımı, (Tb-Dy) -Fe ve Gb-Co alaşım filmi, kompozit magnetron hedef püskürtme işlemiyle başarıyla kaplanmıştır. Yuvarlak Mozaik hedef, kare Mozaik hedef, küçük kare Mozaik hedef ve yelpaze Mozaik hedef olmak üzere dört çeşit kompozit hedef yapısı vardır ve bunlar arasında yelpaze Mozaik hedef yapısı en iyisidir. · geniş bir uygulama yelpazesi. Magnetron püskürtme işlemiyle birçok element biriktirilebilir; yaygın olanları Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, vb. Manyetik kontrollü kaplama teknolojisi, çeşitli film türleri, film kalınlığının güçlü kontrol edilebilirliği, yüksek kaliteli film teknolojileri için en yaygın kullanılan kaplama proseslerinden biridir. yüksek film yapışması, iyi yoğunlaşma ve çok güzel bir yüzey kalitesi.

İKS PVD firmasında dekoratif kaplama makinası, takım kaplama makinası, DLC kaplama makinası, optik kaplama makinası, PVD vakum kaplama hattının anahtar teslimi projesi mevcuttur. Şimdi bize ulaşın, E-posta: iks.pvd@foxmail.com