Magnetron Püskürtme İşlemi Parametrelerinin Etkisi: Matris Negatif Önyargı

Magnetron püskürtme prosesi parametrelerinin etkisi: matris negatif önyargısı

Negatif eğilim, iyonların, hızlanan bir elektrik alanının etkisi altında büyüyen filmi bombalamasına izin verir. (Cr, Ti, Al)N kuaterner kaplamaların mikroyapısı ve mekanik özellikleri, altlık negatif öngeriliminin ayarlanmasıyla altlık yüzeyine ulaşan iyonların enerjisinin ve miktarının değiştirilmesiyle etkilenebilir. Araştırmacılar, (Cr,Ti,Al)N kaplamanın substrat üzerindeki bağlanma kuvvetinin, substrat negatif öngeriliminin artmasıyla önce arttığını ve daha sonra azaldığını buldu. Bunun nedeni, negatif öngerilim basıncının artmasıyla filme iyon bombardımanı tarafından sağlanan enerjinin artması, bunun da film atomlarının substrat yüzeyine geçirgenliğini arttırması ve dolayısıyla film ile substrat arasında güçlü bir bağlanma kuvveti oluşturmasıdır. Bununla birlikte, negatif eğilim daha da arttığında, film üzerindeki yüksek enerjili iyonların bombardımanı kaplamada büyük bir artık gerilim üretecek ve bu da filmin matrise yapışmasını zayıflatacaktır. Araştırmacılar ayrıca negatif önyargının, film bazlı bağlama kuvvetini değiştirerek esas olarak (Cr, Ti, Al) N kaplamaların aşınma direncini etkilediğini buldu. (Cr,Ti,Al)N kaplamanın film bazlı bağlama kuvveti ne kadar iyi olursa, aşınma oranı o kadar küçük ve aşınma direnci süresi de o kadar uzun olur.

İKS PVD firmasında dekoratif kaplama makinası, takım kaplama makinası, DLC kaplama makinası, optik kaplama makinası, PVD vakum kaplama hattının anahtar teslimi projesi mevcuttur. Şimdi bize ulaşın, E-posta: iks.pvd@foxmail.com