kimyasal buhar biriktirme (CVD)

kimyasal buhar biriktirme (CVD)

Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD), gaz fazında veya gaz-katı arayüzünde gaz veya buhar halindeki maddelerin reaksiyonuyla katı tortular üreten bir süreçtir. Kimyasal buhar biriktirme (CVD), inorganik malzemeleri hazırlamak için son yıllarda geliştirilen yeni bir teknolojidir. Kimyasal buhar biriktirme, maddeleri saflaştırmak, yeni kristaller hazırlamak ve çeşitli monokristal, polikristal veya camsı inorganik film malzemeleri biriktirmek için yaygın olarak kullanılmaktadır. Bu malzemeler oksitler, sülfürler, nitrürler, karbürler veya III-V, II-IV, IV-VI gruplarındaki ikili veya kutsal element ara bileşikleri olabilir ve bunların fiziksel işlevleri, gaz katkılı biriktirme işlemleriyle tam olarak kontrol edilebilir.
Kimyasal buhar biriktirme işlemi üç önemli aşamaya ayrılır: reaktif gazın matris yüzeyine difüzyonu, reaktif gazın matris yüzeyine adsorpsiyonu, matris yüzeyinde kimyasal reaksiyonla katı tortu oluşumu ve ayrılması matris yüzeyinden gaz halindeki yan ürünler. En yaygın kimyasal buhar biriktirme reaksiyonları, termal bozunma reaksiyonları, kimyasal sentez reaksiyonları ve kimyasal taşıma reaksiyonlarıdır.

İKS PVD firmasına dekoratif kaplama makinası, alet kaplama makinası, DLC kaplama makinası, optik kaplama makinası, PVD vakum kaplama hattı, anahtar teslim projelendirme mevcuttur. Şimdi bize ulaşın, E-posta:iks.pvd@foxmail.com